FUJIFILM XF 50-140 mm f/2.8 R LM OIS WR — довгофокусний зум-об'єктив, призначений для використання у важких умовах, — це захищений від атмосферних впливів об'єктив, що охоплює популярний діапазон еквівалентних фокусних відстаней 76-213 мм і має постійну максимальну діафрагму f/2.8. Цей швидкий зум, створений для бездзеркальних цифрових фотоапаратів FUJIFILM з байонетом X, вирізняється продуманою конструкцією, високоефективною системою оптичної стабілізації зображення й потрійною лінійною моторною системою автофокусування для точного фокусування.
Щодо оптичної конструкції, цей об'єктив містить п'ять елементів із наднизькою дисперсією й один елемент Super ED, які зменшують хроматичні аберації та колірну окантовку для підвищення чіткості та точності кольору. Крім того, на елементи було нанесено покриття Nano-GI, щоб змінити показник заломлення між елементами, мінімізувати поверхневі відбиття й запобігти відблискам та ореоли на лінзах. Крім того, закруглена семипелюсткова діафрагма сприяє приємній якості боке під час роботи з методами селективного фокусування.
Гнучкий телеоб'єктив із зумом розроблений для бездзеркальних камер Fujifilm X-mount формату APS-C і пропонує еквівалентний діапазон фокусних відстаней 76-213 мм.
Постійна максимальна діафрагма f/2,8 забезпечує стабільну продуктивність у всьому діапазоні зумування і чудово підходить для роботи в складних умовах освітлення.
П'ять елементів із наднизькою дисперсією й один елемент Super ED використовуються для чималого зменшення колірної окантовки та хроматичних аберацій, щоб забезпечити високу чіткість і точність кольоропередавання у всьому діапазоні масштабування.
Покриття Nano-GI (індекс градієнта) було нанесене на елементи лінз і змінює показник заломлення між склом і повітрям, щоб краще пригнічувати відблиски та ореоли для діагонального світла, що падає.
Покриття HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) було нанесене на всю поверхню кожного елемента для керування ореолом і відблисками для більшої контрастності та точності передавання кольору.
Система автофокусування з потрійним лінійним двигуном забезпечує плавну та майже безшумну роботу, що особливо корисно для відеозастосунків і під час роботи в чутливих до шуму зонах.
Система оптичної стабілізації, доповнена вдосконаленим гіроскопічним датчиком і унікальною серією алгоритмів, мінімізує появу тремтіння камери, щоб забезпечити чіткіше зображення під час роботи з довшими фокусними відстанями або довшими витримками.
Корпус об'єктива містить 20 різних атмосферостійких ущільнень для захисту від пилу та вологи, а також для безпроблемного використання в суворих умовах і за низьких температур до 14 °F.
Заокруглена семипелюсткова діафрагма забезпечує приємну якість не у фокусі, що дає змогу використовувати селективне фокусування й малу глибину різкості.
До комплекту входить комір для штатива для збалансованого встановлення та знімання під час роботи зі штатива або монопода.
Сумісність із додатковими телеконвертерами XF 1.4x TC WR і XF 2x TC WR.
Основні | |
---|---|
Виробник | Fuji |
Країна виробник | Японія |
Байонет | Fujifilm X Mount |
Тип об'єктива | Універсальний |
Фокусна відстань min | 50 мм |
Фокусна відстань max | 140 мм |
Світлосила | Постійна |
Значення світлосили | f/2.8 |
Фізичний розмір матриці | APS-C |
- Ціна: 53 625 ₴